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對于方形基片勻膠機的價格及勻膠質量進行分析【詳細】
2020-03-27
“邊膠”的產生及改善
2024-08-28
了解濕法刻蝕工藝的“三酸”
2024-08-19
芯片的誕生
2024-08-15
濕法腐蝕清洗
2024-08-02
勻膠顯影工藝
2024-08-01
熱板與冷板的作用?
2024-07-29
勻膠時光刻膠的溶劑是如何變化的?
2024-07-26
勻膠時旋涂速度對膠層的影響(下)
2024-07-25
晶圓與芯片
2024-07-22
勻膠旋涂速度對膠層的影響
2024-07-19
“邊膠”的產生及改善厚膠旋涂和方形襯底勻膠時邊緣會形成較厚的光刻膠膠邊即邊膠,邊膠是硅片邊緣形成的厚度不均勻的膠層,不僅影響晶圓的外觀還對接觸式光刻工藝產生影響,光刻、顯影等過程產生缺陷,芯片性能降低:由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高,即使在前烘后,掩膜板也會粘附【詳細】
中國“勻膠顯影機”行業市場前景分析預測報告
勻膠顯影機用機械手
華燦(光電)張家港
光刻機 -勻膠顯影工藝前后的主要設備
中國科技大學
低溫泵冷泵
西安干泵-維修業務,愛德華干泵維修,愛發科ULVAC 低溫泵冷泵,
二維光柵-自動涂膠顯影機
勻膠機_如何選購
勻膠機-全息光柵勻膠機
SiC全自動勻膠顯影機
涂膠顯影機產能分析
勻膠、刮膠、彎月牙涂膠方法的區別
愛發科ULVAC 低溫泵冷泵,
金屬剝離工藝-lift off
公開招標:暨南大學大尺寸基片勻膠顯影設備采購
高溫熱板烘烤
勻膠機視頻
化學拋光機-激光陀螺儀
勻膠機均勻性計算
指甲蓋大小的芯片有多少個晶體管呢?芯片制造中的前工序和后工序分別有哪些呢?精密的芯片制造過程?
分享半導體工藝中的濕法刻蝕,主要包括刻蝕各種材料的刻蝕液介紹等
影響勻膠顯影技術工藝的因素
Track中的熱板(HP)與冷板(CP)的作用是什么?分別有幾個?track是什么?
從勻膠到軟烘,光刻膠中的溶劑是在不斷減少的,那么請問溶劑是如何變化的,涉及到哪些原理?
旋轉式勻膠工藝薄膜與速度間的關系
旋轉式勻膠工藝速度與膜厚間的關系