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對于方形基片勻膠機的價格及勻膠質量進行分析【詳細】
2020-03-27
“邊膠”的產生及改善
2024-08-28
晶圓清洗機
2024-02-23
走近晶圓吸附
2024-01-31
晶圓級封裝的五項基本工藝
2024-01-29
半導體名詞解析
2024-01-26
邊緣清洗機-EBR去邊機知識課堂
2024-01-19
噴涂機見氧片盒工藝
2024-01-17
光刻膠涂布工藝
2024-01-16
自動QD噴涂設備
2024-01-11
濕法刻蝕-Wet Etch
2024-01-03
“邊膠”的產生及改善厚膠旋涂和方形襯底勻膠時邊緣會形成較厚的光刻膠膠邊即邊膠,邊膠是硅片邊緣形成的厚度不均勻的膠層,不僅影響晶圓的外觀還對接觸式光刻工藝產生影響,光刻、顯影等過程產生缺陷,芯片性能降低:由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高,即使在前烘后,掩膜板也會粘附【詳細】
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公開招標:暨南大學大尺寸基片勻膠顯影設備采購
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2024-08-19
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2024-08-15
指甲蓋大小的芯片有多少個晶體管呢?芯片制造中的前工序和后工序分別有哪些呢?精密的芯片制造過程?
濕法腐蝕清洗
2024-08-02
分享半導體工藝中的濕法刻蝕,主要包括刻蝕各種材料的刻蝕液介紹等
勻膠顯影工藝
2024-08-01
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2024-07-29
Track中的熱板(HP)與冷板(CP)的作用是什么?分別有幾個?track是什么?
勻膠時光刻膠的溶劑是如何變化的?
2024-07-26
從勻膠到軟烘,光刻膠中的溶劑是在不斷減少的,那么請問溶劑是如何變化的,涉及到哪些原理?
勻膠時旋涂速度對膠層的影響(下)
2024-07-25
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晶圓與芯片
2024-07-22
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2024-07-19
旋轉式勻膠工藝速度與膜厚間的關系
桌面級高精度狹縫涂布機
2024-03-27
高精度狹縫式涂布機是在不同剛性或柔性基材上制備涂布工藝的理想選擇。